Nano-X MRC UV-filteret från K&F CONCEPT är speciellt utformat för FujiFilm X100-serien och erbjuder enastående ljustransmission och reflexskydd. Med en diameter på 52 mm och en vikt på endast 0,1 kg är det lätt och smidigt att hantera. Det japanska optiska glaset med 28 lager ger skarpa bilder och naturliga färger, medan det vattentåliga och repbeständiga materialet skyddar objektivet under olika förhållanden. Det magnetiska monteringssystemet gör det enkelt att sätta på och ta av filtret, och det medföljande förvaringsetui gör det enkelt att ta med sig på fotograferingsturer. Detta filter är en utmärkt lösning för fotografer som vill skydda sina objektiv och förbättra bildkvaliteten.